Zapraszamy studentów ostatnich lat uczelni artystycznych lub absolwentów do udziału w Sympozjum Rzeźby Współczesnej. Studenci będą uczestniczyć w sympozjum w roli „wolontariuszy-asystentów” pomagających przy pracy wybitnym artystom rzeźbiarzom. W ramach wydarzenia będą mieli możliwość zaprezentowania własnej idei twórczej środowisku artystycznemu w tym kuratorom, edukatorom i kolekcjonerom.
Sympozjum Rzeźby Współczesnej to warsztaty rzeźbiarskie zorganizowane i przeprowadzone na terenie Centrum dla 10 artystów profesjonalnych i 10 młodych wolontariuszy-asystentów. Program sympozjum, oprócz warsztatów twórczych, będzie zawierał wykłady i dyskusje dotyczące ważnych wyzwań współczesnej kultury i sposobów konfrontowania się z nimi artystów rzeźbiarzy. Prelegentami będą zaproszeni wybitni specjaliści: artyści, architekci, urbaniści, krytycy i historycy sztuki, filozofowie, antropolodzy, wykładowcy studiów miejskich, aktywiści i użytkownicy przestrzeni publicznej oraz przedstawiciele samorządów odpowiedzialnych za organizacje i planowanie przestrzeni publicznej.
Projekt realizowany jest przy wsparciu Ministerstwa Kultury i Dziedzictwa Narodowego oraz podmiotów prywatnych.
Termin sympozjum: 20 września – 5 października 2020 roku
Organizator: Centrum Rzeźby Polskiej w Orońsku
Komisarz: prof. Mariusz Białecki
Temat: Dystans. Odległość nie jest miarą oddalenia
Organizator zapewnia „wolontariuszom-asystentom”:
Zobowiązania uczestników sympozjum:
Karty zgłoszenia wraz z Klauzulą informacyjną dotyczącą ochrony danych osobowych prosimy przesyłać najpóźniej do 15 lipca 2020 roku, na adres e-mail: a.podsiadly@rzezba-oronsko.pl
Wyboru uczestników pleneru dokona komisja złożona z kuratorów Centrum oraz Komisarza Sympozjum na podstawie nadesłanych materiałów. Informacje o wyborze uczestników zostaną przekazane aplikantom drogą elektroniczną lub telefoniczną w terminie do 31 lipca 2020 roku.
W związku z ogólnie panującą w kraju sytuacją epidemiologiczną Centrum zastrzega sobie prawo zmiany terminu realizacji projektu lub jego odwołania.